SilCor®GR ist eine dreidimensional vernetzte Grafitbeschichtung, die durch einen hohen Anteil von Kohlenstoff in sp2-Hybridisierung (etwa 90%) und einer signifikanten Härte charakterisiert wird. Die Beschichtung erfolgt ohne den Zusatz von Wasserstoff oder Metall mittels Sputtern (PVD – Katodenzerstäubung). Zur Erhöhung der Leitfähigkeit wird standardmäßig ein n-type Doping eingesetzt. Für spezielle Anwendungen sind Modifikationen der Beschichtung durch die Zugabe von Wasserstoff, Metallen oder ohne Dotierung auf Anfrage möglich.
- Herstellung mittels Magnetronsputtern (PVD) in zwei Anlagentypen
- (1) stationär mit 5 Zoll Magnetron in einer Waferbeschichtungsanlage
- (2) stationär, oder Einfach- oder Zweifachrotation mit 30 Zoll Rechteckkatoden
- Metallische Haftvermittlerschicht 100nm Chrom (alternativ Titan oder Aluminium)
- Eigenschaften von SilCor®GR
- Schichtdicke 400 nm (Standard), alternativ 10 .... 10.000 nm
- Oberflächenrauheit: Ra = 5 nm, Rz = 30 nm
- Plastische Universalhärte: UH = 10 GPa (5 mN Last, Standardschicht)
- Martenshärte HM = 6 GPa (5 mN Last, Standardschicht)
- Vickershärte: HV0.005 = 950
- Elastizitätsmodul: E = 135 GPa
- Elastische Deformation: WE/P = 55 %
- Spezifischer elektrischer Widerstand 0,01 Ωcm (optimale n-type Dotierung), sonst 10 Ωcm
- Legierung mit Metallen bzw. Wasserstoff ermöglicht Werte von 10-4 ... 1011 Ωcm
- Temperaturkoeffizient des elektrischen Widerstands typisch -0,2 10-3
- Haftfestigkeit nach Rockwell-Test: HF1
- Ausgeprägte elektronische Feldemission (Kaltkatode)
- Anwendungen
- Elektronenlinsen und Optiken, generelle Vakuumelektronik
- Dünnschicht-Präzisionswiderstände, Leiterbahnen für Hochtemperaturanwendungen
- Kaltkatoden